【关于凯发一触即发】光刻工艺_光刻工艺技术的工艺过程
光刻工艺:制造芯片的重要工艺 光刻工艺是制造芯片过程中不可或缺的一环。它是一种利用光学原理进行微细图案加工的工艺,通过光刻机将光线投射在硅片上,形成微米级别的图案,从而实现芯片的制造。光刻工艺是芯片制造中最为关键的一步,因为它直接影响到芯片的性能和质量。下面我们将详细介绍光刻工艺的技术和过程。 小标题一:光刻胶的涂布 光刻工艺的第一步是在硅片表面涂布一层光刻胶。这一步的目的是为了保护硅片表面,并且使得后续的图案加工更加精确。光刻胶的涂布需要使用专门的涂布机器,同时需要控制好涂布的厚度和均匀性。